Основные графические формулы оснований

В = 1 R1OH В = 2 R2(OH)2 В = 3 R3(OH)3

Номенклатура оснований.Согласно международной системе ИЮПАК название основного гидроксида (основания) складывается из двух слов. Первое состоит из приставки гидр- , корня окс-и окончания-ид, последнее обозначает принадлежность к классу гидроксидов. Второе слово – название химического элемента в родительном падеже. Если элемент образует несколько гидроксидов, то к его названию, в скобках, добавляют степень окисления римской цифрой. Например: NaOH – гидроксид натрия, Ва(ОН)2 – гидроксид бария, но Cu(OH)2 – гидроксид меди (II), Fe(OH)3 - гидроксид железа (III).

Основные химические свойства оснований. Если рассмотреть свойства всех оснований и отбросить индивидуальные, присущие конкретному химическому элементу, то можно выделить следующие, основные химические свойства оснований:

1) Главным химическим свойством оснований является взаимодействие с кислотами (реакция нейтрализации) с образованием соли и воды, например:

NaOH + HCl = NaCl + H2O ;

Mg(OH)2 + H2SO3 = MgSO3 + 2H2O;

Mn(OH)2 + 2HNO3 = Mn(NO3)2 + 2H2O.

2) Основания взаимодействуют с кислотными оксидами с образованием соли и воды, например:

Ba(OH)2 + CO2 = BaCO3 + H2O;

2NaOH + SO3 = Na2SO4 + H2O.

3) Сильные основания – щелочи взаимодействуют с амфотерными оксидами с образованием соли и воды, например:

6КОН + Al2O3 + 3H2O = 2K3[Al(OH)6].

4) Растворы щелочей реагируют с активными металлами с образованием соли и газа водорода, например:

2NaOH + Zn + 2H2O = Na2[Zn(OH)4] + H2↑.

5) Растворы щелочей реагируют с солями слабых оснований с образованием слабого основания и новой соли, например:

2KOH + CuSO4 = Cu(OH)2↓ + K2SO4 ;

2KOH + FeSO4 = Fe(OH)2↓ + K2SO4 .

6) Большинство оснований при нагревании разлагается, при этом выделяются оксид и вода:

Ca(OH)2 = CaO + H2O;

Cu(OH)2 = CuO + H2O;

2Fe(OH)3 = Fe2O3 + 3H2O.

Щелочи NaOH и KOH устойчивы к нагреванию.

 

Диссоциация оснований.Согласно теории электролитической диссоциации основания можно разделить на:

 

- сильные электролиты (растворимые в воде);

- слабые электролиты (нерастворимые в воде и гидроксид аммония).

Механизм диссоциации зависит от силы электролита, чем меньше заряд иона металла, тем сильнее электролит. Заряд иона металла можно рассчитать по числу гидроксогрупп, так как заряд ОН- равен -1.

Растворы щелочей окрашивают фенолфталеин в малиновый цвет. В водных растворах щелочи являются сильными электролитами и диссоциируют на ионы полностью. Чаще всего уравнения диссоциации записывают в упрощенной форме:

NaOH = Na+ + OH-;

Ba(OH)2 = Ba2+ + 2OH-

Основания, малорастворимые в воде (прил. 3), являются слабыми электролитами. Электролитическая диссоциация многокислотных оснований протекает обратимо и в несколько ступеней, например:

1 ступень Cu(OH)2 ⇄ CuOH+ + OH-

2 ступень CuOH+ ⇄ Cu2+ + OH- .

Амфотерные гидроксиды в зависимости от условий реакции могут проявлять как свойства кислот, так и оснований. Они диссоциируют либо по типу слабых кислот, посылая в раствор катионы водорода, либо по типу слабых оснований, образуя в растворе гидроксид-ионы, например:

Zn(OH)2 ⇄ НZnO2- + H+ , Zn(OH)2 ⇄ OH- + ZnOH+

Рассмотрим для примера реакции а) и б):

а) Zn(OH)2 + 2HCl = ZnCl2 + 2H2O,

Гидроксид цинка Zn(OH)2 проявляет основные свойства, потому что, взаимодействуя с кислотой, образует соль соляной кислоты – хлорид цинка и воду. При взаимодействии Zn(OH)2 с раствором щелочи проявляются его кислотные свойства:

б) Zn(OH)2 + 2NaOH = Na2[Zn(OH)4] ,

образуется соль цинковой кислоты – тетрагидроксоцинкат натрия.

Амфотерные гидроксиды характерны для р-элементов третьей и четвертой групп (A1(OH)3, Ga(OH)3, Pb(OH)2 и др.), а также для элементов побочных подгрупп Периодической системы (в промежуточной степени окисления), например: Cr(OH)3, Fe(OH)3 Zn(OH)2 и др.








Дата добавления: 2019-04-03; просмотров: 769;


Поиск по сайту:

При помощи поиска вы сможете найти нужную вам информацию.

Поделитесь с друзьями:

Если вам перенёс пользу информационный материал, или помог в учебе – поделитесь этим сайтом с друзьями и знакомыми.
helpiks.org - Хелпикс.Орг - 2014-2024 год. Материал сайта представляется для ознакомительного и учебного использования. | Поддержка
Генерация страницы за: 0.005 сек.