Экспериментальные данные по продольному переносу
На рис. 6.2 представлены данные, иллюстрирующие прогресс, достигнутый в области повышения подвижности электронов при продольном переносе за последние двенадцать лет в наноструктурах на основе GаАs, типа описываемых выше полевых МОП-транзисторов.
Рис. 6.1. Понижение подвижности электронов в результате межподзонного рассеяния между подзонами с п = 1и п = 2. |
Очевидный успех был достигнут за счет нескольких факторов, прежде всего, как указывалось выше, за счет физического разделения легирующих примесей и носителей в модулированно-легированных гетероструктурах. Для большей эффективности такого разделения, в структурах начали создавать вспомогательный из «полуизолятора» (sрасеr), играющий роль прослойки между слоем доноров и двумерным слоем электронов в проводящем канале. Такой слой особенно эффективен при низких температурах, когда преобладают механизмы рассеяния электронов на атомах примеси. Другим фактором, способствующим увеличению подвижности электронов, стала высокая чистота используемых объемных материалов, связанная с развитием методов выращивания пленок на основе полупроводников АIIIВV, что специально показано на рис. 6.2 отдельной кривой для «чистых объемных» материалов (стоит отметить прекрасные показатели в области температур Т³100 К). Повышение чистоты наращиваемых пленок, связанное с использованием сверхвысокого вакуума и чистых газов, что характерно для таких методов роста, как молекулярно-лучевая эпитаксия, также явилось важным фактором повышения подвижности.
Рис. 6.2. Прогресс в повышении подвижности электронов при продольном переносе в гетеропереходах соединений АIIIВV. Для сравнения представлены аналогичные данные для «чистых объемных» материалов. |
При температурах 100 К и выше, вплоть до комнатной, основными механизмами рассеяния является рассеяние на фононах, особенно связанное с оптическими фононами в случае полярных материалов типа GаАs.
Как и следовало ожидать, подвижность электронов в кремниевых полевых МОП-транзисторах оказывается значительно ниже, чем в полевых транзисторах с модулированным легированием МОDFET. Как показано на рис. 6.3, подвижность в модулированно-легированных структурах АlGаАs/GаАs может достигать 107 см2/В×с, что почти на три порядка выше, чем в полевых МОП-транзисторах на основе кремния, что может быть объяснено рядом причин. Во-первых, эффективная масса электронов в кремнии намного больше, чем в GаАs. Во-вторых, влияние рассеяния на примесях в кремниевых полевых МОП-транзисторах, вызываемые зарядами и примесями в окисле и границе раздела, значительно сильнее, чем в АlGаАs/GаАs, где заряженные примеси и носители пространственно разделены достаточно эффективно. В-третьих, как показано на рис. 6.3, при низких температурах доминирующим становится рассеяние на неровностях границы раздела. Этого следовало ожидать вследствие того что, при термическом окислении граница раздела кремний — окисел не такая совершенная, как в структурах АlGаАs/GаАs, изготовляемых с использованием гораздо более сложных и точных технологий, таких, как молекулярно-лучевая эпитаксия.
При воздействии очень сильных электрических полей (³МВ см-1) рассеяние, обусловленное рассеянием на шероховатости границы раздела становится доминирующим, и именно оно становится главным фактором ограничения подвижности электронов. В этой связи интересно упомянуть, что экспериментальные значения подвижности электронов в квантовых проволоках, определяемые шероховатостью поверхности, вносимой в процессе современных методов микротекстурирования, много меньше значений, предсказываемых теорией.
В последние годы проводились очень серьезные исследования подвижности в напряженных Si-Ge гетероструктурах, которые представляются перспективными для производства высокочастотных биполярных транзисторов на гетероструктурах и транзисторов с высокой подвижностью электронов, на основе кремниевой технологии.
Рис. 6.3. Температурная зависимость подвижности электронов в кремниевых полевых МОП-транзисторах. |
Как известно, в гетероструктурах на основе соединений АIIIВV дырки имеют очень большую эффективную массу, что и привлекает внимание исследователей к процессам двумерного переноса дырок в Si-Ge гетероструктурах с достаточно большим разрывом валентной зоны. Считается, что в таких структурах можно будет достичь подвижности дырок вплоть до значений 105 см2/В×с.
Дата добавления: 2015-08-11; просмотров: 919;