Условные обозначения допусков формы и расположения поверхностей

Величина предельного отклонения относится ко всей длине поверхности. Если требования распространяются только на часть поверхности, то необходимая длина указывается в рамке через дробь после числового значения допуска.

Перед числовым значением допуска необходимо указывать:

• символ Æ , если поле допуска задано его диаметром;
• символ R, если поле допуска задано радиусом;
• символ Т, если допуски симметричности, пересечения осей, формы заданной поверхности, а также позиционные заданы в диаметральном выражении;
• символ Т/2 для тех же видов допусков, если они заданы в радиусном выражении;

Зависимый и независимый допуски расположения (формы).

Зависимым называют переменный допуск расположения или формы, минимальное значение которого указывается в чертеже или технических требованиях и которое допускается превышать на величину, соответствующую отклонению действительного размера поверхности детали от проходного предела (наибольшего предельного размера вала или наименьшего предельного размера отверстия). Зависимые допуски расположения назначают главным образом в случаях, когда необходимо обеспечить собираемость деталей, сопрягающихся одновременно по нескольким поверхностям с заданными зазорами или натягами.

Независимым называют допуск расположения (формы), числовое значение которого постоянно для всей совокупности деталей, изготовляемых по заданному чертежу, и не зависит от действительных размеров рассматриваемых поверхностей.

Зависимый допуск на чертеже обозначают условным знаком , который помещают:

• после числового значения допуска, если зависимый допуск связан с действительными размерами рассматриваемого элемента;
• после буквенного обозначения базы или без буквенного обозначения базы в третьем поле рамки, если зависимый допуск связан с действительными размерами базового элемента;
• после числового значения допуска и буквенного обозначения базы или без буквенного обозначения базы, если зависимый допуск связан с действительными размерами рассматриваемого и базового элементов.