Управление электронным лучом

Применяется электростатические и магнитные поля. На движущийся в магнитном поле электрон действует сила.

B – магнитная индукция

v – скорость движения электрона

α – угол между вектором скорости движения электрона и магнитной силовой линией поля.

Под действием этой силы электрон будет двигаться в магнитном поле по окружности перпендикулярной силовым линиям поля. При этом траектория движения электрона под действием магнитного поля и инерционных сил выглядит в виде спирали, радиус которой зависит от начальной скорости электрона и напряженности магнитного поля. Созданием по оси электронного луча магнитного поля определенной формы можно обеспечить фокусировку электронов в определенной точке. Изменяя положение это точки по вертикали к обрабатываемой поверхности можно менять концентрацию энергии на заготовке. Для перемещения электронного луча по обрабатываемой поверхности используют его взаимодействие со скрещенными поперечными магнитными полями, создаваемыми отклоняющей системой. Благодаря малой массе электронов можно перемещать электронный луч по обрабатываемой поверхности в широком диапазоне скоростей при практически любой форме траектории. Получают электронный луч только в вакууме. Иначе в электронной пушке резко возрастает число ионизированных молекул остаточных газов, что может вызвать пробой промежутка между катодом и анодом.