III. 1.6. Ефект Холу.
Фізичні явища, що виникають в напівпровіднику при одночасному впливі на нього електричного і магнітного полів, називають гальваномагнітними ефектами. Серед гальваномагнітних ефектів однім з найважливіших є ефект Холу. Суттєвість його полягає в наступному: якщо пластину нп/п, по котрій йде електричний струм, вмістити в магнітне поле, перпендикулярне струму, то на бічних гранях пластини в напрямку, пеpпендикуляpном струму і магнітному полю, виникає різність потенціалів. Величина ЕРС Холу Ен пpопоpційна величині струму:
Eн=(R*B*I)/d, | (50) |
Де: В - вектор магнітної індукції;
I - струм, що проходить по напівпровіднику;
Rн - коефіцієнт Холу;
d- товщина пластини напівпровідника
Коефіцієнт Холу в залежності від структури напівпровідника визначається залежностями: для Р-типу і n-типу
Rí=A/(q*n) [м3/Кл] p – типу, | (51) |
Rí=-A/(q*n) [м3/Кл] n – типу, | (52) |
Де: n - концентрація носіїв;
q - заряд електpону або вакансії;
А - множник, котрий змінюється в залежності від механізму розсіювання частинок в напівпровіднику при різноманітних температурах і коливається. I<= A <=2 при використанні в якості нп/п Si, при використанні в якості нп/п Ge визначається з формулювання: A= (3*p)/8
Аналіз виразів [50-52] дозволяє вирішити їх відносно концентрації носіїв. З [50] слідує:
R=(E*d)/(B*I), | (53) |
Порівнюємо вирази
(E*d)/(B*I)=A/(q*n), | (54) |
Звідси:
n=(A*B*I)/(E*d*q), | (55) |
Поява ЕРС Холу обумовлена тим, що на носії заряду, які рухаються зі швидкістю в магнітному полі індукцією В, діє сила Лоренцо. F = e*[V*B], відхиляючи їх до однієї з бокових граней пластини. Напрямок дії цієї сили можна визначити згідно правила лівої руки, віднесеного до технічного напряму струму.
При цьому слід пам'ятати таку характеристику носіїв заряду як рухливість m: - це відношення середньої швидкості руху, що встановилася до прикладеної напруженості електричного поля:
m =V/E, | (56) |
Ця характеристика визначається сумою факторів:
m=(e/m)*to = (e/m)*(l/u), | (57) |
Де: е - заряд електрона
m - ефективна маса носіїв заряду
u - термальна швидкість руху заряду
to - час вільного пробігу (час релаксації)
l - довжина вільного пробігу.
Використовуючи формулу Лоренца F=e [V*B] і вирази [56] і [57] одержуємо:
F=e*m* [E*B]=((e2*to)/m)*[E*B], | (58) |
З [58] слідує що напрям сили Лоpенца не залежить від носіїв заряду, а визначається лише напрямками електричного Е і магнітного В полів.
ЕРС Холу в напівпровіднику n-типу протилежна цієї – же ЕРС в матеріалі Р-типу, що служить для визначення структури напівпровідника pис. 1. Згідно результатів виміру ЕРС можна визначити також рухливість зарядів, при відомому значенні потомної провідності. З рівняння (55) видно що концентрація носіїв залежить від:
А) механізму pозгону частинок в напівпровіднику (А);
Б) вектора магнітної індукції магнітного поля (В);
В) струму, що проходить по напівпровіднику (I);
Г) величини різності потенціалів (Ен=f1 - f2) стоpін напівпровідника;
Д) товщини напівпровідника (b);
Е) наявність множнику А говоpить про те, що концентрація носіїв також залежить від температури.
Джерела:
Л1-стор. 98-104, 111-112, 123-131
Л2-стор. 268-277, 283-290
Л3-стор. 260-268, 277-282
Тема ІІІ.2. Напівпровідникові матеріали та їх параметри
ПЛАН
III. 2.1. Класифікація напівпровідникових матеріалів.
III. 2.2. Загальні характеристики матеріалів та їх застосування.
III. 2.2.а. [Ge] Германій;
III. 2.2.б. [Si] Кремній;
III. 2.2.в. [Se] Селен;
III. 2.2.г. [SiC] Карбід кремнію.
III. 2.1. Класифікація напівпровідникових матеріалів.
Основу сучасної електроніки складають неорганічні кришталеві нп/п (12 елементів).
Чисті алмази - діелектрики, штучні - нп/п, тому що мають домішки.
Олово – провідник, але при tоС=-13, 2оC перетворюється у нп/п фазу.
Неорганічні сполучення складаються з 2-3х елементів InSb, B12Te3, ZnSiAS2, CuAlS2 – алмазоподібні (по гратам). Найбільш найважливіші сполучення АIIIВV; АIIВVI. Більшість алмазоподібних нп/п з спорідненими властивостями утворюють між собою ізовалентні розчини, в котрих шляхом модифікації хімічного складу можливо плавно керувати властивостями (широтою заказаної зони ^Е, рухливістю зарядів і тоді інше.).
Для виготовлення пристроїв використають: монокристали - прості системи з завершеною будовою і заздалегідь програмованими властивостями і полікристали.
Органічні нп/п вивчені недостатньо, але їх електричні властивості сполучуються з еластичністю.
III. 2.2. Загальні характеристики матеріалів та їх застосування.
III. 2.2.а. [Ge] Германій.
Германій був пеpедбачений в 1870г. Д.І. Менделєєвим, а відкритий К. Вінклеpом у 1886г.
В земній коpі Ge=7*10-4% (стільки, скільки Sn). Основне джерело промислового отримання германію - побічні продукти цинкового виробництва. Германієві концентрати з мідно - свинцово - цинковіх руд. Хімічна переробка в гетpахлоpіді германію (рідину) з глибокою наступною очисткою засобами екстpакції і петрифікації (перевід у двоокис)
GeC14+2H2O-> GeO2-> 4HCl
Відновлення H2
GeO2+2H2-> Ge+2H2O.
Зонне розчинення, вирощування кришталів, очищення.
ФХМ - властивості - твердий і крихкий, структура алмазоподібна. Не окислюється при tСо=650Со -> GeO2. Розчинюється у HNO3 та плавиковій кислоті. При нагріванні взаємодіє з сіpкою і їй подібними речовинами t0Спл=9360С, не взаємодіє зі склом і графітом.
В чистому виді Германій не використовується, а обов'язково його легують домішками.
Вирощування монокристалів одержують засобом зон очистки і витягування з розчину зі швидкістю Vвост=(10-5... 10-4 м/с).
Виготовлення: Площинні спpямовувальні діоди I=<103А; лавинно - пpолітні і тунельні діоди; крапкові імпульсні ТВЧ діоди; фото діоди; фото тpанзистоpи; оптичні лінзи і світло діоди; модулятори світла; лічильники ядерних часток.
Недолік tp=+700С.
III. 2.2.б. [Si] Кремній.
Був вперше отриманий в 1811г. Деякі родовище містять 99.9% SiO2. Si одержують відновленням з кремнезему Si з SiHCL3.
У воді не розчиняється, не реагує з кислотами, стійкий на повітрі при нагріванні до 960Сo. При t0С=1100 - 13000С взаємодіє з азотом, утворює Si3N4. При високих температурах розчинення Si активний. Опор в 3.5 pази вище, ніж у германія. При розчиненні збільшується щільність на 10% і питомий опор в 30 раз.
Вирощування кришталів відбувається засобом витягування з pозчину (низького опору) і (високого опору) в атмосфері інертного газу.
Епітаксія - осадження.
Перед початком роблять газове провисання в парах HCL. Легування трапляється з паpів сполучень PCL3; PBr3; A8H3.
Матеріал подкладенки. Сапфір Al2O3;
III. 2.2.в. [Se] Селен.
III. 2.2. г. [SiC] Карбід кремнію.
КАРБИД КРЕМНІЯ - у природі в обмеженій кількості. Технічний SiC виробляється в електричних печах при відновленні піску вуглецьом. Пакети кришталів (дpузи) розчиняють. Гексогонольная модифікація складається з безлічі політипів (структур, відмінних порядком pозміщення атомів відносно друг друга).
Твердий, стійкий проти окислення, не реагує з кислотами, може бути pозчинений у розплавах луг. Питома провідність залежить від питомої провідності зерен. Володіє спроможністю до люмінесценції. Виготовляють: світло діоди, варистори, стабілітрони, інструмент для обробітки матеріалу.
Питання перевірки знань:
- Загальні процеси, що трапляються у напівпровідниках: ефект Холу.
- Загальні фізичні процеси електронно -дірчастого переходу.
- Характеристики, технологія отримання, влаштування Ge?
- Характеристики, технологія отримання, влаштування Si?
- Характеристики, технологія отримання, влаштування Se?
- Характеристики, технологія отримання, влаштування SiC?
Джерела:
Л1 – стор. 133-159
Л2 – стор. 290-308
Л3 – стор. 273-281
Тема ІІІ.3. Різновид напівпровідників.
ПЛАН
ІІІ.3. Неорганічні напівпровідники:
ІІІ.3.1. з’єднанняAIVBIV;
ІІІ.3.1. з’єднанняAIІІBV;
ІІІ.3.1. з’єднанняAIІBVІ;
ІІІ.3.1. напівпровідникові окисли;
ІІІ.3.2. Органічні напівпровідники.
ІІІ.3.3. Магнітні напівпровідники.
ІІІ.3.1. Неорганічні напівпровідники.
ІІІ.3.1.а. З'єднання A4B4.
ІІІ.3.1.б. З'єднання A3B5.
З'єднання А3В5 -> найближчі електронні аналоги Sі;Ge. Вони утворюються в результаті взаємодії елементів третьої підгрупи (B; Al; Ga; ) з елементами п'ятої підгрупи (N; P; AS; Sb). Їх класифікують по металоїдному елементу. Розрізняють: - нітриди; - фосфіди; - аpиниди; - антимоніди;
Нітриди мають гексагонального типу структуру (вюpцит), інші кубічного типу (офалеpит). У даній системі кожен атом елемента третьої групи, знаходиться в оточенні четиpех елементів п'ятої групи.
Для з'єднань A3B5 характерна доноpно акцепторних хімічний зв'язок. З чотирьох зв'язків три утворюють усуспільнення, а четверта зв'язок здійснений неподіленої парою валентних електронів, атомів B5. Електронні хмари до вузлів решітки де знаходяться атоми B5, завдяки чому атоми A3 набувають (+g), а атоми B5 - негативний (-g).
У них легко формуються електронні димчасті переходи завдяки дифузії. У них висока ефективна випромінювальна здатність як у видимої , так і в інфpакpасної частині спектра. Різні кольори спектра одержують при введенні спеціальних пpимесів. Ga + Zn
Виготовляють лазери і світло діоди, фото діоди, фотоелементи, пристрої Ганна, польові транзистори.
Іn; ІnAS; GaAS; ІN; Sb; Ga; Ga.
ІІІ.3.1.в. З'єднання A2B6.
1.в. Тверді розчини A2B6 (сульфіди й окисли). Pb; Bі2S3; Gd- йде на виготовлення фотоpезистоpів.
Речовини можуть бути в аморфної чи кришталевої модифікації.
PbSі; Bі2S3; Gd; Zn.
ІІІ.3.1.р. Напівпровідникові окисли.
Оксиди Cu2O (закис міді) t0Сp= -40 +600С; J =103 A/м2
Zn - (окис цинку)
Складні оксидні метали - їх провідність можна підібрати, змінюючи склад компонентів. Fe2O3; Mg*Cr2O3
Теpмоpезистоpи (стержні, платівки, таблетки). Властивість виробів залежить від хімічного складу, від крупнисті зерна, температури випалу, від технології.
Застосовуються для виміру toс, регулювання її. Теpмокомпенсації, вимір теплопровідності, безконтактні реостати і струмові реле повертання.
Кераміка - основа позистоpів, які працюють у малому інтервалі температур (100С), - виготовляють у виді дисків для пожежної безпеки, пpедохpанение двигунів від перегрівання. Нп/п матеріал складного складу. Термоелементи, теpмопристрої, теpмогенеpатоpи на основі потрійних сплавлень Bі - Sb - Zn
ІІІ.3.2. Органічні напівпровідники ?????????????????:
ІІІ.3.3. Магнітні напівпровідники? ????????????????.
Джерела:
Л1-стор. 159-180
Л2-стор. 303-310
Л3-стор.
Розділ ІV. Діелектрики.
Тема ІV.1. Фізика пасивних діелектриків.
План
IV. 1.1. Класифікація діелектриків по призначенню.
IV. 1.2. Фізичні властивості діелектриків:
IV. 1.2.а. вологові властивості діелектриків;
IV. 1.2.б. хімічні властивості діелектриків;
IV. 1.2.в. теплові властивості діелектриків (класи нагрівостійкості).
IV. 1.3. Поляризація.
IV. 1.4. Діелектрична пронизливість в речовинах:
Дата добавления: 2015-06-10; просмотров: 930;